Полисиликонът е важен целеви материал за разпрашаване.Използването на метод на магнетронно разпрашване за приготвяне на SiO2 и други тънки филми може да направи матричния материал по-добра оптична, диелектрична и корозионна устойчивост, което се използва широко в сензорни екрани, оптични и други индустрии.
Процесът на леене на дълги кристали е да се реализира насоченото втвърдяване на течния силиций от дъното нагоре постепенно чрез точно контролиране на температурата на нагревателя в горещото поле на пещта за слитък и разсейването на топлината на топлоизолационния материал и скоростта на втвърдяване на дългите кристали е 0,8 ~ 1,2 cm/h.В същото време, в процеса на насочено втвърдяване, може да се реализира ефектът на сегрегация на метални елементи в силициевите материали, повечето от металните елементи могат да бъдат пречистени и може да се образува еднаква поликристална силициева зърнеста структура.
Отлетият полисилиций също трябва да бъде умишлено легиран в производствения процес, за да се промени концентрацията на акцепторни примеси в силициевата стопилка.Основната добавка на p-тип лят полисилиций в промишлеността е основната сплав със силициев бор, в която съдържанието на бор е около 0,025%.Количеството допинг се определя от целевото съпротивление на силиконовата пластина.Оптималното съпротивление е 0,02 ~ 0,05 Ω • cm, а съответната концентрация на бор е около 2 × 1014 cm-3。 Въпреки това, коефициентът на сегрегация на бора в силиция е 0,8, което ще покаже определен ефект на сегрегация в процеса на насочено втвърдяване, че Борният елемент се разпределя в градиент във вертикалната посока на слитъка и съпротивлението постепенно намалява от дъното към върха на слитъка.
Време на публикуване: 26 юли 2022 г