Някои клиенти попитаха за силициеви мишени за разпръскване.Сега колегите от технологичния отдел на RSM ще анализират силициеви мишени за разпръскване вместо вас.
Силициевата цел за разпръскване се прави чрез разпръскване на метал от силициев слитък.Мишената може да бъде произведена чрез различни процеси и методи, включително галванопластика, разпрашване и отлагане на пари.Предпочитаните изпълнения освен това осигуряват допълнителни процеси на почистване и ецване за постигане на желаните повърхностни условия.Произведената мишена е силно отразяваща, с грапавост по-малка от 500 ангстрьома и сравнително висока скорост на горене.Филмът, приготвен от силициевата мишена, има нисък брой частици.
Силициевата мишена за разпрашаване се използва за отлагане на тънки филми върху материали на базата на силиций.Те обикновено се използват в приложения за дисплеи, полупроводници, оптика, оптична комуникация и стъклени покрития.Подходящи са и за ецване на високотехнологични компоненти.N-тип силициеви мишени за разпрашаване могат да се използват за различни цели.Приложим е в много области, включително електроника, слънчеви клетки, полупроводници и дисплеи.
Силициевата мишена за разпръскване е аксесоар за разпрашаване, използван за отлагане на материали върху повърхността.Обикновено се състои от силициеви атоми.Процесът на разпръскване изисква точно количество материал, което може да бъде голямо предизвикателство.Използването на идеално оборудване за разпръскване е единственият начин да се направят компоненти на базата на силиций.Струва си да се отбележи, че силиконовата цел за разпрашаване не се използва в процеса на разпрашаване.
Време на публикуване: 24 октомври 2022 г