Вакуумното покритие се отнася до нагряване и изпаряване на източника на изпарение във вакуум или разпръскване с ускорено йонно бомбардиране и отлагането му върху повърхността на субстрата за образуване на еднослоен или многослоен филм.Какъв е принципът на вакуумно покритие?След това редакторът на RSM ще ни го представи.
1. Покритие чрез вакуумно изпаряване
Покритието чрез изпаряване изисква разстоянието между молекулите на парата или атомите от източника на изпарение и субстрата, който ще бъде покрит, да бъде по-малко от средния свободен път на молекулите на остатъчния газ в помещението за нанасяне на покритие, така че да се гарантира, че молекулите на парата на изпарението може да достигне повърхността на субстрата без сблъсък.Уверете се, че филмът е чист и твърд и изпарението няма да се окисли.
2. Покритие чрез вакуумно разпрашване
Във вакуум, когато ускорените йони се сблъскат с твърдото тяло, от една страна, кристалът се поврежда, от друга страна, те се сблъскват с атомите, които изграждат кристала, и накрая атомите или молекулите на повърхността на твърдото вещество пръскане навън.Разпръснатият материал се нанася върху субстрата, за да образува тънък филм, който се нарича вакуумно разпръскване.Има много методи за разпрашване, сред които диодното разпрашване е най-ранният.Според различните катодни мишени, той може да бъде разделен на постоянен ток (DC) и високочестотен (RF).Броят на атомите, разпръснати чрез въздействие върху целевата повърхност с йон, се нарича скорост на разпръскване.С висока скорост на разпрашаване скоростта на образуване на филма е бърза.Скоростта на разпръскване е свързана с енергията и вида на йоните и вида на целевия материал.Най-общо казано, скоростта на разпрашаване се увеличава с увеличаването на енергията на човешките йони, а скоростта на разпрашаване на благородните метали е по-висока.
Време на публикуване: 14 юли 2022 г